Shin-Etsu MicroSi X-23-8195-4 es una grasa térmica monocomponente a base de silicona, sin disolventes, rellena de partículas cerámicas esféricas (Al₂O₃ y ZnO), formulada como un material de interfaz térmica (TIM) no conductor de electricidad para la disipación de calor de semiconductores.
| Artículo | Especificación | Unidad / Nota |
|---|---|---|
| Nombre del producto | Shin-Etsu MicroSi X-23-8195-4 | — |
| Resina Base | Silicona (Polidimetilsiloxano) | — |
| Relleno | Esférico Al₂O₃, ZnO (Cerámica) | No conductor de electricidad |
| Apariencia | Pasta/grasa grisácea | — |
| Conductividad térmica (λ) | 4.6 | W/m·K |
| BLT mínimo (grosor de la línea de unión) | 14 – 17 | µm |
| Resistencia térmica @ BLT mínimo | 3,7 – 4,0 (típico 4,0) | mm²·K/W |
| Resistencia de interfaz (medida) | ~5.2 | mm²·K/W |
| Viscosidad (@25°C) | 90 | pa·s |
| Gravedad específica (@25°C) | 2.5 | — |
| Rango de temperatura de funcionamiento | -30 a +150 | °C |
| Contenido volátil (@150°C, 24h) | ≤ 0,15 | % |
| Tamaño máximo de partícula de relleno | ≤ 17 (típico ≤10) | µm |
| Contenido de solvente | Ninguno (formulación sin disolventes) | — |
Desarrollada como una evolución de las pastas OEM Shin-Etsu anteriores (X-23-7921-5 / X-23-7783D), la X-23-8195-4 presenta una viscosidad media tixotrópica y una distribución del tamaño de las partículas de relleno estrictamente controlada, lo que permite que se extienda en una línea de unión extremadamente delgada y estable entre un procesador IHS/die y su disipador térmico. Muestra una tendencia mínima al bombeo, un bajo sangrado y un rendimiento térmico estable a largo plazo bajo calentamiento cíclico, cualidades que lo convirtieron en una opción popular en servidores OEM y aplicaciones de enfriamiento de consumo de alto nivel antes de ingresar al mercado minorista.
El X-23-8195-4 está diseñado para brindar confiabilidad industrial: sus rellenos cerámicos esféricos permiten un espesor de línea de unión (BLT) mínimo alcanzable de ~14–17 µm bajo una presión de montaje típica (probada a 9 N/cm² por igor'sLAB), lo que produce una baja resistencia térmica de la interfaz (~4,4–5,2 mm²·K/W). La pasta es eléctricamente aislante, no contiene disolventes volátiles (contenido volátil <0,15 % a 150 °C/24 h) y resiste la desgasificación de siloxano y la separación de fases, lo que la hace adecuada para salas limpias y entornos de ciclos térmicos repetidos.
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